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第152章 拓扑半金属
陈元光没有纠正对方所说的硅片光敏感性，光刻机先作用于光刻胶，然后再经过刻蚀工艺将图案印刷在硅片上。
毕竟对方只是负责人，他需要做的是把拓扑半金属为什么可以成为一条路讲清楚。
“拓扑半金属描述的是一类物质，就和铁化合物会包含各种各样含有铁元素的化合物一样，不同的拓扑半金属和不同的铁化合物一样，会表现出不同的性质。
而我们需要找到的是能表现出光敏感性的拓扑半金属。
一直以来科学家们都对拓扑半金属寄予厚望，认为这种材料会替代硅片，成为未来芯片技术的基础，是因为拓扑半金属能够表现出一种非常特殊的性质：宽谱效应。
半金属中存在的零带隙结构可以吸收各种能量的激发光子，它对激光的偏振敏感，其线偏振分辨的根源来自于晶格的各向异性，这导致拓扑半金属材料中有很多都有显著的对线偏振敏感的光电响应机制，进而产生具有显著各向异性的光电流响应。
比如说外尔锥的手性，使得半金属中的电子在跃迁过程中，易于同光子的自旋角动量相互作用，形成独特的选择定则，产生圆偏振分辨的光电流，又比如一些半金属的光电流响应会通过外尔半金属的外尔点附近的巨大贝里曲率来实现增强。”
林甲听得一脸茫然，这是什么，她昨天听陈元光讲了拓扑半金属之后做了功课，可她发现做的功课好像一点用都没有。
赵普虽然是工科博士出身，但是博士之间亦有差距，他这个博士和陈元光的博士学位之间的差距比二本和清北之间的差距还要大得多。
更别说是压根从来没有了解过的拓扑半金属，这属于材料学、光学和凝聚态物理结合的一个领域，算是很前沿的领域了。
赵普听得晕晕乎乎，连原理都听不懂，有种在听天书的感觉。
“陈博士，我完全没懂您在说什么。
但是我猜，您的意思是拓扑半金属因为特性是能表现出光敏感的，所以光刻机可以作用于它是这个意思吗？”赵普苦笑道。
陈元光点头：“没错，我发现了一种材料，对光表现出来的敏感性，会比之前发现的拓扑半金属都更强，同时在光敏感性上又会更加稳定。
这是非常难找到的特性，因为半金属，它处于金属和绝缘体中间态，这意味着它不稳定，不稳定，你利用它的光敏感特性去画图的话，它很难让你期待的图案一直稳定出现在上面。
我们用一种比喻来形容的话，你可以理解成它是宣纸，随便一点墨水都会在上面渲染出一大片，而硅片是A4纸，墨水印上去会很稳定。
没错，就是宣纸１
陈元光觉得自己终于找到了合适的比喻，让眼前这两位能够听懂他想要表述的意思。
“宣纸薄，A4纸厚，所以在宣纸上写是不稳定的，而在A4纸上写出来的图画也好文字也好是很稳定的。
而我现在找到了一种新材料，它既具备宣纸的薄又具备A4纸稳定的特性。
这也就解释了伱刚刚提出的问题，那就是这种材料是可以大规模工业化的。
当然它也存在一些问题，但是这些问题我都想到了解决办法。
最大的问题就是我们需要改造光源，需要对光刻机的光源进行改造，之前光刻机的光源是对光刻胶作用的，而我们需要偏振光。
另外就是我们需要对拓扑半金属的工艺流程进行大规模制备。”
陈元光的回答解决了两个问题，一个是拓扑半金属对偏振光会表现出光敏感性，所以它可以用光刻机。
但是需要对光源进行改造。
第二个就是，这就是工业化生产技术。
“另外我们只解决生产端的话，还需要设计端，需要芯片设计，因为我们可以把芯片做大，把7nm工艺用到的晶体管，用28nm做到一个更大的硅片上。
因为我不太了解芯片设计，我想这应该还是需要对芯片重新设计。
尤其这涉及到全新的工艺。”
赵普听完后知道以陈元光的性格，既然这样说了，那么意味着他对成功有绝对的把握。
“我会去帮你联系燕京那边，后续准备专家来做论证，做完论证后，可行的话，我们会在国内这些企业和研究机构里进行选型。
把这个当成近年来头号任务推进的。”
对华国来说，芯片问题至关重要，不管是集成电路产业大基金，还是对华为、中芯国际、华虹这些半导体厂商的扶持力度都能感受到这一点。
先正达七百亿rmb的募资规模不能上市ipo，先正达背靠央企，华虹募资两百亿，募资完之后把钱放在银行吃利息可以上。
芯片企业在当下就是亲儿子，从政策到金融扶持力度无不在说明这一点。
像光刻厂方案被自媒体博主爆炒一顿后没下文，为什么，因为这条技术路线没有被证实是可行的。
换句话说，沿着光刻机这条路线，摸着石头过河，你能知道会遇到哪些困难点，需要怎么克服，投入产出比相对清晰。
而光刻厂，投入产出比怎么算，这可是大项目，投了钱最后没有达到效果谁担责，谁签的字，谁批下去的钱，没人敢拍板。
而有常温超导之后，还是水木大学搭着前沿科技这班顺风车，硬上的项目。
说是原本成功率可能只有百分之五十，有了常温超导体之后，成功概率上升到百分之七十，又是和鼓励创新沾上边。
很是花了水木大学一番力气。
赵普有这个敏锐度，他能敏锐捕捉到陈元光计划中是基于现有基础的改造，意味着只需要花很小的成本就可以验证是否可行。
和光刻厂相比，改造光源的难度可要小太多。 连光刻厂的计划都会被允许，更何况有着常温超导在前陈元光的光刻机改造计划。
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第152章 拓扑半金属
陈元光没有纠正对方所说的硅片光敏感性，光刻机先作用于光刻胶，然后再经过刻蚀工艺将图案印刷在硅片上。
毕竟对方只是负责人，他需要做的是把拓扑半金属为什么可以成为一条路讲清楚。
“拓扑半金属描述的是一类物质，就和铁化合物会包含各种各样含有铁元素的化合物一样，不同的拓扑半金属和不同的铁化合物一样，会表现出不同的性质。
而我们需要找到的是能表现出光敏感性的拓扑半金属。
一直以来科学家们都对拓扑半金属寄予厚望，认为这种材料会替代硅片，成为未来芯片技术的基础，是因为拓扑半金属能够表现出一种非常特殊的性质：宽谱效应。
半金属中存在的零带隙结构可以吸收各种能量的激发光子，它对激光的偏振敏感，其线偏振分辨的根源来自于晶格的各向异性，这导致拓扑半金属材料中有很多都有显著的对线偏振敏感的光电响应机制，进而产生具有显著各向异性的光电流响应。
比如说外尔锥的手性，使得半金属中的电子在跃迁过程中，易于同光子的自旋角动量相互作用，形成独特的选择定则，产生圆偏振分辨的光电流，又比如一些半金属的光电流响应会通过外尔半金属的外尔点附近的巨大贝里曲率来实现增强。”
林甲听得一脸茫然，这是什么，她昨天听陈元光讲了拓扑半金属之后做了功课，可她发现做的功课好像一点用都没有。
赵普虽然是工科博士出身，但是博士之间亦有差距，他这个博士和陈元光的博士学位之间的差距比二本和清北之间的差距还要大得多。
更别说是压根从来没有了解过的拓扑半金属，这属于材料学、光学和凝聚态物理结合的一个领域，算是很前沿的领域了。
赵普听得晕晕乎乎，连原理都听不懂，有种在听天书的感觉。
“陈博士，我完全没懂您在说什么。
但是我猜，您的意思是拓扑半金属因为特性是能表现出光敏感的，所以光刻机可以作用于它是这个意思吗？”赵普苦笑道。
陈元光点头：“没错，我发现了一种材料，对光表现出来的敏感性，会比之前发现的拓扑半金属都更强，同时在光敏感性上又会更加稳定。
这是非常难找到的特性，因为半金属，它处于金属和绝缘体中间态，这意味着它不稳定，不稳定，你利用它的光敏感特性去画图的话，它很难让你期待的图案一直稳定出现在上面。
我们用一种比喻来形容的话，你可以理解成它是宣纸，随便一点墨水都会在上面渲染出一大片，而硅片是A4纸，墨水印上去会很稳定。
没错，就是宣纸１
陈元光觉得自己终于找到了合适的比喻，让眼前这两位能够听懂他想要表述的意思。
“宣纸薄，A4纸厚，所以在宣纸上写是不稳定的，而在A4纸上写出来的图画也好文字也好是很稳定的。
而我现在找到了一种新材料，它既具备宣纸的薄又具备A4纸稳定的特性。
这也就解释了伱刚刚提出的问题，那就是这种材料是可以大规模工业化的。
当然它也存在一些问题，但是这些问题我都想到了解决办法。
最大的问题就是我们需要改造光源，需要对光刻机的光源进行改造，之前光刻机的光源是对光刻胶作用的，而我们需要偏振光。
另外就是我们需要对拓扑半金属的工艺流程进行大规模制备。”
陈元光的回答解决了两个问题，一个是拓扑半金属对偏振光会表现出光敏感性，所以它可以用光刻机。
但是需要对光源进行改造。
第二个就是，这就是工业化生产技术。
“另外我们只解决生产端的话，还需要设计端，需要芯片设计，因为我们可以把芯片做大，把7nm工艺用到的晶体管，用28nm做到一个更大的硅片上。
因为我不太了解芯片设计，我想这应该还是需要对芯片重新设计。
尤其这涉及到全新的工艺。”
赵普听完后知道以陈元光的性格，既然这样说了，那么意味着他对成功有绝对的把握。
“我会去帮你联系燕京那边，后续准备专家来做论证，做完论证后，可行的话，我们会在国内这些企业和研究机构里进行选型。
把这个当成近年来头号任务推进的。”
对华国来说，芯片问题至关重要，不管是集成电路产业大基金，还是对华为、中芯国际、华虹这些半导体厂商的扶持力度都能感受到这一点。
先正达七百亿rmb的募资规模不能上市ipo，先正达背靠央企，华虹募资两百亿，募资完之后把钱放在银行吃利息可以上。
芯片企业在当下就是亲儿子，从政策到金融扶持力度无不在说明这一点。
像光刻厂方案被自媒体博主爆炒一顿后没下文，为什么，因为这条技术路线没有被证实是可行的。
换句话说，沿着光刻机这条路线，摸着石头过河，你能知道会遇到哪些困难点，需要怎么克服，投入产出比相对清晰。
而光刻厂，投入产出比怎么算，这可是大项目，投了钱最后没有达到效果谁担责，谁签的字，谁批下去的钱，没人敢拍板。
而有常温超导之后，还是水木大学搭着前沿科技这班顺风车，硬上的项目。
说是原本成功率可能只有百分之五十，有了常温超导体之后，成功概率上升到百分之七十，又是和鼓励创新沾上边。
很是花了水木大学一番力气。
赵普有这个敏锐度，他能敏锐捕捉到陈元光计划中是基于现有基础的改造，意味着只需要花很小的成本就可以验证是否可行。
和光刻厂相比，改造光源的难度可要小太多。 连光刻厂的计划都会被允许，更何况有着常温超导在前陈元光的光刻机改造计划。
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